NS 产品包含小型离子蚀刻用于研究分析和大型离子蚀刻系统用于生产制造。离子蚀刻系统对磁性材料、黄金、铂和合金金属提供蚀刻技术.它很容易做各种材料的蚀刻.
离子蚀刻系统主要应用：
薄膜磁头 (Thin film Magnetic Head).
自旋电子学 (Spintronics)
MR Sencer
微电子机械系统 (MEMS Micro-electromechanical Systems)
射频设备 (RF Devices)
光学组件 (Optical Component)
超导电性 (Super Conductivity)
产品包含如下三种：
10 IBE (10cm 离子源)
小型整合离子束适合研究使用
8cm 或 10cm 考夫曼离子源
基片尺寸：直径 4英寸 X 1片
单一直接冷却平台
20IBE-C（20cm 离子源）
离子束蚀刻系统适合生产制造
20cm 考夫曼离子源
基片尺寸：
直径 3英寸 X 8片
直径 4英寸 X 6片
直径 6英寸 X 4片
图形线路化，蚀刻均匀性佳
20IBE-J (20cm 离子源)
大型离子束蚀刻系统
20cm 考夫曼离子源
基片尺寸：
直径 4英寸 X 12片
直径 5英寸 X 10片
直径 6英寸 X 8片
图形线路化，蚀刻均匀性佳
上海伯东主营产品：德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵，干式真空泵，罗茨真空泵，旋片真空泵；应用于各种真空环境下的真空计，氦质谱检漏仪，质谱分析仪以及美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪 霍尔源，美国 HVA 真空阀门，Polycold 冷冻机，离子刻蚀机等。
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